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DAV
Déposition en phase vapeur
Déposition en phase vapeur modifiée
Dépôt axial en phase vapeur
Dépôt chimique en phase vapeur
Dépôt chimique en phase vapeur à l'extérieur
Dépôt chimique modifié en phase vapeur
Dépôt chimique phase vapeur
Dépôt en phase vapeur
Dépôt en phase vapeur dans le sens axial
Dépôt en phase vapeur interne
Dépôt en phase vapeur par procédé chimique
Dépôt en phase vapeur à l'extérieur
Dépôt à l'extérieur
MOCVD
Méthode CVD modifiée
Méthode MCVD
Méthode OVPO
Méthode VAD
Méthode de dépôt axial en phase vapeur
Méthode de dépôt externe en phase vapeur
Méthode modifiée de déposition intérieure
Méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur
Méthode par dépôt axial en phase vapeur
OVPO
Oxydation en phase vapeur externe
Oxydation en phase vapeur interne
Procédé A. D.
Procédé M. C. D.
Procédé MOCVD
Procédé OVPO
Procédé Verneuil
Procédé axial
Procédé d'oxydation en phase vapeur externe
Procédé d'oxydation en phase vapeur interne
Procédé de dépôt intérieur modifié
Procédé en phase vapeur modifié
Procédé extérieur
Procédé extérieur d'oxydation en phase vapeur
Procédé intérieur modifié
VAD

Translation of "Procédé en phase vapeur modifié " (French → English) :

TERMINOLOGY
see also In-Context Translations below
méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur | procédé de dépôt intérieur modifié | méthode modifiée de déposition intérieure | procédé en phase vapeur modifié | procédé intérieur modifié | déposition en phase vapeur modifiée | méthode MCVD | procédé M. C. D. | méthode CVD modifiée

modified chemical vapor deposition process | modified chemical vapour deposition process | MCVD process | modified CVD method | modified inside vapor phase oxidation process | MCVD method | modified chemical vapor deposition | MCVD | modified chemical vapour deposition | modified inside vapour phase oxidation | MIVPO
électronique > fibre optique
électronique > fibre optique


méthode de dépôt externe en phase vapeur | procédé extérieur d'oxydation en phase vapeur | procédé d'oxydation en phase vapeur externe | procédé extérieur | oxydation en phase vapeur externe | dépôt chimique en phase vapeur à l'extérieur | dépôt en phase vapeur à l'e ...[+++]

outside vapor-phase oxidation process | outside vapor phase oxidation process | outside vapour phase oxidation process | OVPO process | outside vapour deposition process | outside vapor phase oxidation | outside vapour phase oxidation | OVPO | outside chemical vapor deposition | outside vapor deposition
électronique > fibre optique
électronique > fibre optique


déposition en phase vapeur | dépôt chimique en phase vapeur | dépôt chimique phase vapeur | dépôt en phase vapeur | dépôt en phase vapeur par procédé chimique

chemical vapor deposition | chemical vapour deposition | CVD [Abbr.]
IATE - Soft energy | Electronics and electrical engineering
IATE - Soft energy | Electronics and electrical engineering


méthode de dépôt axial en phase vapeur | procédé axial | procédé Verneuil | méthode par dépôt axial en phase vapeur | dépôt en phase vapeur dans le sens axial | dépôt axial en phase vapeur | DAV | méthode VAD | procédé A. D. | VAD

vapor phase axial deposition process | vapour phase axial deposition process | VAD process | vapor phase axial deposition technique | vapour phase axial deposition technique | VAD technique | axial vapor-phase oxidation process | AVPO process | axial vapour phase oxidation process | vapor phase axial deposition | vapor-phase axial deposition | vapour phase axial deposition | vertical axial deposition | VAD | vapor axial deposition | vapour axial deposition | AVPO
électronique > fibre optique
électronique > fibre optique


dépôt en phase vapeur interne | oxydation en phase vapeur interne | procédé d'oxydation en phase vapeur interne

inside vapour deposition process | inside vapour phase oxidation | inside vapour phase oxidation process | IV process | modified chemical vapour deposition process | IVPO [Abbr.]
IATE - Industrial structures and policy | Chemistry
IATE - Industrial structures and policy | Chemistry


oxydation en phase vapeur externe | procédé d'oxydation en phase vapeur externe

outside vapour deposition process | outside vapour phase oxidation | outside vapour phase oxidation process | OVPO [Abbr.]
IATE - Industrial structures and policy | Chemistry
IATE - Industrial structures and policy | Chemistry


dépôt chimique en phase vapeur par composés organométalliques [ MOCVD | procédé MOCVD | traitement métallo-organique par dépôt chimique en phase vapeur | dépôt en phase vapeur à partir de composés organométalliques ]

metal organic chemical vapor deposition [ MOCVD | metal-organic chemical vapor deposition | metal organic chemical vapour deposition | metalorganic CVD | organometallic chemical vapour deposition ]
Électrotechnique
Electrical Engineering


méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur [ procédé de dépôt intérieur modifié ]

modified CVD method [ modified inside vapor phase oxidation process | modified chemical inside vapor phase oxidation process ]
Photo-électricité et optique électronique
Photoelectricity and Electron Optics


dépôt chimique modifié en phase vapeur

modified chemical vapor deposition [ MCVD | modified chemical vapour deposition ]
Techniques industrielles | Télécommunications optiques
Industrial Techniques and Processes | Optical Telecommunications
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs sont munis d’une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.

10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.


aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.

hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.


les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a importée dans l’Union, en indiquant les principales catégories d’applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’ind ...[+++]

the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufactur ...[+++]


les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a mises sur le marché dans l’Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.


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les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a importée dans l'Union, en indiquant les principales catégories d'applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'ind ...[+++]

the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufactur ...[+++]


les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a mises sur le marché dans l'Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;


aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;

hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;


10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs sont munis d'une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.

10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.


h) "conservation": le fait d'utiliser des agents chimiques, de modifier le milieu ambiant ou d'utiliser d'autres procédés pendant la phase de transformation, afin d'empêcher ou de retarder la détérioration biologique ou physique des cellules ou des tissus.

(h) "preservation" means the use of chemical agents, alterations in environmental conditions or other means during processing to prevent or retard biological or physical deterioration of cells or tissues.


2. Après réduction, les sous-produits animaux doivent être portés à une température à cœur supérieure à 133 °C pendant au moins 20 minutes, sans interruption et à une pression (absolue) d'au moins 3 bars produite par de la vapeur saturée . Ce procédé peut être appliqué en tant que traitement unique ou en tant que phase de stérilisation antérieure ou postérieure au traitement.

2. After reduction the animal by-products must be heated to a core temperature of more than 133°C for at least 20 minutes without interruption at a pressure (absolute) of at least 3 bars produced by saturated steam ; the heat treatment may be applied as the sole process or as a pre- or post-process sterilisation phase.




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Procédé en phase vapeur modifié

Date index:2021-03-15 -

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