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Déposition autocatalytique
Déposition chimique
Déposition chimique de silicium
Déposition de vapeur chimique métallo-organique
Déposition en phase vapeur
Déposition en phase vapeur modifiée
Dépôt chimique
Dépôt chimique en phase vapeur
Dépôt chimique phase vapeur
Dépôt en phase vapeur
Dépôt en phase vapeur par procédé chimique
Dépôt par réduction chimique
MOCVD
Méthode CVD modifiée
Méthode MCVD
Méthode modifiée de déposition intérieure
Méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur
Procédé M. C. D.
Procédé de dépôt intérieur modifié
Procédé en phase vapeur modifié
Procédé intérieur modifié

Translation of "Déposition chimique de silicium " (French → English) :

TERMINOLOGY
see also In-Context Translations below
déposition chimique de silicium

chemical deposition of silicon
IATE - Iron, steel and other metal industries
IATE - Iron, steel and other metal industries


dépôt chimique [ déposition chimique ]

chemical plating
Électrométallurgie
Electrometallurgy


déposition chimique

chemical deposition
Traitement des eaux usées
Wastewater Treatment


déposition en phase vapeur | dépôt chimique en phase vapeur | dépôt chimique phase vapeur | dépôt en phase vapeur | dépôt en phase vapeur par procédé chimique

chemical vapor deposition | chemical vapour deposition | CVD [Abbr.]
IATE - Soft energy | Electronics and electrical engineering
IATE - Soft energy | Electronics and electrical engineering


méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur | procédé de dépôt intérieur modifié | méthode modifiée de déposition intérieure | procédé en phase vapeur modifié | procédé intérieur modifié | déposition en phase vapeur modifiée | méthode MCVD | procédé M. C. D. | méthode CVD modifiée

modified chemical vapor deposition process | modified chemical vapour deposition process | MCVD process | modified CVD method | modified inside vapor phase oxidation process | MCVD method | modified chemical vapor deposition | MCVD | modified chemical vapour deposition | modified inside vapour phase oxidation | MIVPO
électronique > fibre optique
électronique > fibre optique


déposition de vapeur chimique métallo-organique | MOCVD [Abbr.]

metal-organic chemical vapour deposition | MOCVD [Abbr.]
IATE - Chemistry
IATE - Chemistry


déposition autocatalytique | dépôt par réduction chimique

electroless plating | electroless deposition | autocatalytic plating | chemical reduction plating
métallurgie > revêtement métallique
métallurgie > revêtement métallique
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
Carbure de silicium, de constitution chimique définie ou non

Silicon carbide, whether or not chemically defined


vi)la réduction chimique ou électrolytique d’oxydes métalloïdes ou d’oxydes non métalliques, tels que les oxydes de silicium et les phosphates.

(vi)the chemical or electrolytic reduction of metalloid oxides or non-metal oxides such as silicon oxides and phosphates.


2. équipements pour le dépôt en phase vapeur par procédé chimique d'éléments ou de composés sur des substrats filamenteux chauffés pour la fabrication de fibres de carbure de silicium;

2. Equipment for the chemical vapour deposition of elements or compounds on heated filamentary substrates to manufacture silicon carbide fibres;


À la suite de la publication, en octobre 1998, d'un avis d'expiration prochaine des mesures en vigueur, la Commission a été saisie d'une demande de réexamen déposée par le Conseil européen des fédérations de l'industrie chimique (CEFIC) au nom de producteurs représentant une proportion majeure de la production communautaire totale de carbure de silicium (ci-après dénommés "producteurs communautaires à l'origine de la demande").

Following the publication in October 1998 of a notice of the impending expiry of the measures in force, the Commission received a request for a review lodged by the European Chemical Industry Council (CEFIC) on behalf of producers representing a major portion of the Community production of silicon carbide (hereafter "the applicant Community producers").


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Le silicium-métal, souvent réparti en trois catégories (chimique, primaire métallurgique et secondaire métallurgique), est surtout utilisé dans la chimie et la métallurgie pour produire des silicones (produits d'étanchéité, revêtements et cosmétiques par exemple) et mouler des alliages d'aluminium destinés essentiellement à l'industrie automobile (pistons et roues en alliages par exemple).

Silicon metal, which is frequently divided into three grades (chemical, primary metallurgical and secondary metallurgical), is used primarily in the chemical and metallurgical industries to produce silicones (e.g. sealants, coatings and cosmetics) and casting aluminium alloys mainly used in the automotive industry (e.g. pistons and wheel alloys).


(28) Le tétrachlorure de silicium est une substance chimique utilisée comme produit de base pour la fabrication d'acide silicique pyrogéné, d'esters d'acide silicique, de fibres optiques, de verre quartzeux synthétique et d'autres produits.

(28) Silicon tetrachloride is a chemical used as a raw material for the production of fumed silica, fumed silica esters, fibre optic cables, synthetic silica glass and other products.


8. Les éléments chimiques, tels que le silicium et le sélénium, dopés en vue de leur utilisation en électronique restent classés dans le présent chapitre, à la condition qu'ils soient présentés sous des formes brutes de tirage, de cylindres ou de barres.

8. Chemical elements (for example, silicon and selenium) doped for use in electronics are to be classified within this Chapter, provided that they are in forms unworked as drawn, or in the form of cylinders or rods.


considérant cependant que des éléments chimiques isolés et des composés de constitution chimique définie sont exclus du chapitre 28 lorsqu'ils ont subi certaines ouvraisons ; qu'il en est ainsi, notamment, de cristaux en matières piézo-électriques lesquels, conformément aux notes explicatives de la Nomenclature de Bruxelles, nº 38.19 (page 38.19/7 paragraphe 40) ne relèvent pas, à l'état coupé mais non monté, des chapitres 28 ou 29 et sont, dans ce cas, à classer dans la position 38.19 ; qu'il y a lieu de considérer comme analogue ...[+++]

Whereas, however, some separate chemical elements and separate chemically defined compounds are excluded from Chapter 28 if they have undergone certain processes ; whereas this is so as regards piezo-electric crystals, which in accordance with the Explanatory Note to heading No 38.19 of the Brussels Nomenclature (page 38.19/7, paragraph 40) do not fall within Chapter 28 or 29 when cut but unmounted and are classified in that case under heading No 38.19 ; whereas doped silicon which has been cut should be treated as a similar case;


considérant que le silicium (polycristallin ou monocristallin), en tant qu'élément chimique isolé, contenant ou non des impuretés, relève du chapitre 28 du tarif douanier commun, conformément à la note 1 a) de ce chapitre;

Whereas silicon (polycrystalline or monocrystalline) being a separate chemical element, whether or not containing impurities, falls within Chapter 28 of the Common Customs Tariff in accordance with Note 1 (a) to that Chapter;




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Déposition chimique de silicium

Date index:2023-01-23 -

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