reactive ion deposition and etching | RIDE,reactive ion processes are an extension of sputtering processes in that the inert gas used for generating the plasma is replaced by a gas that reacts with the material to be deposited or etched [Abbr.]

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

dépôt et gravure ionique réactifs

IATE - Information technology and data processing | Electronics and electrical engineering

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) [HTML] [2017-12-31]

cathode sputtering | sputtering | cathodic sputtering | sputter coating

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

pulvérisation cathodique | bombardement cathodique

électronique | métallurgie

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) [HTML] [2018-01-01]

high-rate sputtering vacuum deposition

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

dépôt sous vide par pulvérisation à haute intensité

IATE - Iron, steel and other metal industries

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) [HTML] [2017-12-31]

cathode sputtering | cathodic sputtering | sputtering

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

pulvérisation de la cathode | évaporation cathodique | pulvérisation

électronique

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) [HTML] [2018-01-01]

reactive sputtering | reactive cathode sputtering

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

pulvérisation réactive

électronique > semi-conducteur

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) [HTML] [2018-01-01]

cathode sputtering [ sputtering ]

http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

pulvérisation cathodique

Electrical Engineering

Électrotechnique

http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

http://www.btb.termiumplus.gc. (...) [HTML] [2018-01-01]

engine miss [ engine sputtering | sputtering of the engine ]

http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

raté de moteur

Engines (Motor Vehicles)

Moteur (Véhicules automobiles)

http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

http://www.btb.termiumplus.gc. (...) [HTML] [2018-01-01]

ion beam sputtering [ IBS | ion gun sputtering ]

http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

pulvérisation au canon à ions

Photoelectricity and Electron Optics | Optical Telecommunications

Infographie

http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

http://www.btb.termiumplus.gc. (...) [HTML] [2018-01-01]

bank deposit [ demand deposit | deposit account | fixed deposit | sight deposit | time deposit ]

http://eurovoc.europa.eu/drupa (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

dépôt bancaire [ avoirs bancaires | compte bancaire | dépôt à terme | dépôt à vue ]

24 FINANCE | MT 2416 financial institutions and credit | BT1 banking

24 FINANCES | MT 2416 institutions financières et crédit | BT1 activité bancaire

http://eurovoc.europa.eu/drupa (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

http://eurovoc.europa.eu/drupa (...) [HTML] [2017-12-31]

IN-CONTEXT TRANSLATIONS

The Table refers only to triode, magnetron or reactive sputter deposition which is used to increase adhesion of the coating and rate of deposition and to radio frequency (RF) augmented sputter deposition used to permit vaporisation of non-metallic coating materials.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

Le tableau se réfère uniquement au dépôt par triode, par magnétron ou par pulvérisation cathodique, qui est utilisé pour augmenter l'adhérence du revêtement et la vitesse de dépôt, et au dépôt par pulvérisation cathodique amélioré par radiofréquence, utilisé pour permettre la vaporisation de matériaux de revêtement non métalliques.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]

This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

Cela comprend les procédés dans lesquels l'implantation ionique est effectuée en même temps que le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons ou le dépôt par pulvérisation cathodique.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]

2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment specially designed for cutting or machining tools.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

Le paragraphe 2B005 ne vise pas les équipements pour le dépôt chimique en phase vapeur, pour le dépôt par arc cathodique, pour le dépôt par pulvérisation cathodique, pour le placage ionique ou pour l'implantation ionique, spécialement conçus pour outils de coupe ou d'usinage.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]

e". Stored programme controlled" sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 µm/h or more;

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

e. equipements de production à "commande par programme enregistré" pour le dépot par pulvérisation cathodique pouvant avoir des densités de courant égales ou supérieures 0,1 mA/mm2 à une vitesse de dépot égale ou supérieure à 15 µm/heure;

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]

For more results, go to https://pro.wordscope.com to translate your documents with Wordscope Pro!

e". Stored programme controlled" sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm² or higher at a deposition rate of 15 µm/h or more;

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2000-12-31]

e. equipements de production à "commande par programme enregistré" pour le dépot par pulvérisation cathodique pouvant avoir des densités de courant égales ou supérieures 0,1 mA/mm³ à une vitesse de dépot égale ou supérieure à 15 µm/heure;

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2000-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2000-12-31]

www.wordscope.com (v4.0.br.77)

'sputter deposition'

Date index:2023-01-16 -

Pour agences de traduction et traducteurs - For translation agencies & translators

Paris - Brussels - Montreal - Genève - Luxembourg - Madrid

Wordscope - Professional computer-assisted translation tools (CAT tools)

Translation of "sputter deposition " (English → French) :

Pour agences de traduction et traducteurs - For translation agencies & translators Paris - Brussels - Montreal - Genève - Luxembourg - Madrid Wordscope - Professional computer-assisted translation tools (CAT tools)

Pour agences de traduction et traducteurs - For translation agencies & translators

Paris - Brussels - Montreal - Genève - Luxembourg - Madrid

Wordscope - Professional computer-assisted translation tools (CAT tools)