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Administer electrolytes to cathodes and anodes
Apply electrolytes to cathodes and anodes
Cathode sputtering
Cathodic atomization coating ion sputtering
Cathodic sputtering
Directly heated cathode
Directly heated cathode filament
Engine miss
Engine sputtering
Filament
Filament-type cathode
Filamentary cathode
Implement electrolyte solution to cathodes and anodes
Implement electrolytes to cathodes and anodes
Reactive cathode sputtering
Reactive sputtering
Sputter coating
Sputtering
Sputtering of the engine

Translation of "Cathode sputtering " (English → French) :

TERMINOLOGY
see also In-Context Translations below
cathode sputtering | sputtering | cathodic sputtering | sputter coating

pulvérisation cathodique | bombardement cathodique
électronique | métallurgie
électronique | métallurgie


cathode sputtering | cathodic sputtering | sputtering

pulvérisation de la cathode | évaporation cathodique | pulvérisation
électronique
électronique


cathode sputtering [ sputtering ]

pulvérisation cathodique
Electrical Engineering
Électrotechnique


cathode sputtering

pulvérisation cathodique | pulvérisation de la cathode
IATE - Electronics and electrical engineering
IATE - Electronics and electrical engineering


reactive sputtering [ reactive cathode sputtering ]

pulvérisation cathodique réactive [ pulvérisation réactive ]
Electronic Systems | Semiconductors (Electronics)
Ensembles électroniques | Semi-conducteurs (Électronique)


reactive sputtering | reactive cathode sputtering

pulvérisation réactive
électronique > semi-conducteur
électronique > semi-conducteur


cathodic atomization coating ion sputtering

revêtement par projection cathodique
IATE - Iron, steel and other metal industries | Electronics and electrical engineering
IATE - Iron, steel and other metal industries | Electronics and electrical engineering


engine miss [ engine sputtering | sputtering of the engine ]

raté de moteur
Engines (Motor Vehicles)
Moteur (Véhicules automobiles)


directly heated cathode | directly heated cathode filament | filament | filamentary cathode | filament-type cathode

cathode à chauffage direct | filament
IATE - Electronics and electrical engineering
IATE - Electronics and electrical engineering


administer electrolytes to cathodes and anodes | implement electrolytes to cathodes and anodes | apply electrolytes to cathodes and anodes | implement electrolyte solution to cathodes and anodes

appliquer des électrolytes sur des cathodes et des anodes
skill
Aptitude
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
Mercury used as a cathode sputtering inhibitor in DC plasma displays with a content up to 30 mg per display until 1 July 2010.

Le mercure utilisé comme inhibiteur à pulvérisation cathodique dans les écrans plasma DC contenant un maximum de 30 mg par écran jusqu’au 1er juillet 2010.


Substitution for mercury used as a cathode sputtering inhibitor in DC plasma displays with content of up to 30 mg per display is currently technically impracticable, but should be practicable by 1 July 2010.

Bien qu’à l’heure actuelle le mercure utilisé comme inhibiteur à pulvérisation cathodique dans les écrans plasma DC contenant un maximum de 30 mg par écran ne puisse pas être techniquement remplacé, cela devrait être possible à partir du 1er juillet 2010.


Substitution for mercury used as a cathode sputtering inhibitor in DC plasma displays with content of up to 30 mg per display is currently technically impracticable, but should be practicable by 1 July 2010.

Bien qu’à l’heure actuelle le mercure utilisé comme inhibiteur à pulvérisation cathodique dans les écrans plasma DC contenant un maximum de 30 mg par écran ne puisse pas être techniquement remplacé, cela devrait être possible à partir du 1er juillet 2010.


Mercury used as a cathode sputtering inhibitor in DC plasma displays with a content up to 30 mg per display until 1 July 2010.

Le mercure utilisé comme inhibiteur à pulvérisation cathodique dans les écrans plasma DC contenant un maximum de 30 mg par écran jusqu’au 1er juillet 2010.


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2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment specially designed for cutting or machining tools.

Le paragraphe 2B005 ne vise pas les équipements pour le dépôt chimique en phase vapeur, pour le dépôt par arc cathodique, pour le dépôt par pulvérisation cathodique, pour le placage ionique ou pour l'implantation ionique, spécialement conçus pour outils de coupe ou d'usinage.


The sophisticated technology involves cathode sputtering under vacuum of alternate layers of a metal and a metal oxide on to the glass.

Il concerne une technologie sophistiquee de pulverisation cathodique sous vide d'un metal et d'un oxyde de metal qui sont appliques alternativement sur les plaques de verre plat de facon a constituer des couches thermo-isolantes; ces vitrages a couches sont utilises principalement pour la construction immobiliere.




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'Cathode sputtering'

Date index:2022-03-21 -

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