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Fabrication du masque
Fabrication du masque photographique
Fabrication du photomasque
Masque photographique
Masque photographique déposé par électrolyse
Masque photographique inversé chimiquement
Masque photographique à polarité inversée
Masque photolithographique
Photomasque
Phototype
Polarité du masque photographique
Polarité du photomasque
Typon

Translation of "Polarité du masque photographique " (French → English) :

TERMINOLOGY
see also In-Context Translations below
polarité du masque photographique [ polarité du photomasque ]

photomask polarity
Circuits imprimés et micro-électronique | Techniques industrielles
Printed Circuits and Microelectronics | Industrial Techniques and Processes


masque photographique à polarité inversée

reverse-polarity photomask
IATE - Electronics and electrical engineering
IATE - Electronics and electrical engineering


fabrication du photomasque [ fabrication du masque photographique | fabrication du masque ]

photomask making [ maskmaking ]
Circuits imprimés et micro-électronique | Techniques industrielles
Printed Circuits and Microelectronics | Industrial Techniques and Processes


masque photographique [ photomasque | masque photolithographique ]

photomask [ photo mask | photolithographic mask ]
Semi-conducteurs (Électronique)
Semiconductors (Electronics)


masque photographique inversé chimiquement

chemically-reversed photomask
IATE - Electronics and electrical engineering
IATE - Electronics and electrical engineering


masque photographique déposé par électrolyse

electroformed photomask | metal photomask
IATE - Electronics and electrical engineering
IATE - Electronics and electrical engineering


masque photographique | typon | phototype

phototool | photomask
électronique > circuit imprimé | photographie > application de la photographie
électronique > circuit imprimé | photographie > application de la photographie
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
– Appareils photographiques des types utilisés pour la préparation des clichés ou cylindres d’impression qui sont des masqueurs conçus pour la production de masques et réticules à partir de substrats recouverts d’une résine photosensible; leurs parties et accessoires | Fabrication: à partir de matières de toute position, à l’exclusion des matières de la même position que le produit,dans laquelle la valeur de toutes les matières utilisées ne doit pas excéder 40 % du prix départ usine du produit, etdans laquelle la valeur de toutes les ...[+++]

– cameras of a kind used for preparing printing plates or cylinders which are pattern generating apparatus of a kind used for producing masks or reticles from photoresist coated substrates; parts and accessories thereof | Manufacture: from materials of any heading, except that of the product,in which the value of all the materials used does not exceed 40 % of the ex-works price of the product, andin which the value of all the non-originating materials used does not exceed the value of all the originating materials used | Manufacture in which the value of all the materials used does not exceed 30 % of the ex-works price of the product |


Il prévoit également la fabrication de prototypes des masques photographiques nouvellement conçus et la production d'une quantité limitée de ces nouveaux masques photographiques.

It is also planned to produce prototypes of the newly developed photomasks and to pilot-manufacture a limited quantity of them.


Les masques photographiques interviennent dans la fabrication de micropuces.

Photomasks are used in the manufacture of microchips.


Le projet porte sur la création d'un établissement de recherche et développement destiné à la conception de masques photographiques optiques.

The project relates to the establishment of a research and development facility for the development of optical photomasks.


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La Commission autorise une aide à l'investissement pour la fabrication de masques photographiques optiques à Dresde

Commission approves investment aid for the manufacture of optical photomasks in Dresden


La Commission a décidé d'autoriser une aide à l'investissement de 98 millions d'euros pour la création d'un établissement de recherche et de développement dans le domaine des masques photographiques optiques.

The Commission has decided to approve investment aid of €98 million for the setting up of a research and development facility for optical photomasks.


Si nécessaire, il est recommandé de faire une analyse sur deux phases fixes de polarités différentes pour vérifier l'absence de pics masqués, par exemple dans le cas de la présence simultanée de C18:3 et C20:0 ou de C18:3 et C18:2 conjugués.

If necessary, it is recommended that an analysis be carried out on two fixed phases with different polarities to verify the absence of masked peaks, for example in the case of the simultaneous presence of C18:3 and C20:0, or C18:3 and C18:2 conjugated.




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Polarité du masque photographique

Date index:2022-02-10 -

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