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Lithographie X
Lithographie aux rayons X
Lithographie par rayons X
Lithographie à rayon direct
Lithographie à rayons X
Rayon direct
Rayon radioélectrique direct
Trajet direct
Trajet radioélectrique direct

Translation of "Lithographie à rayon direct " (French → English) :

TERMINOLOGY
see also In-Context Translations below
lithographie à rayon direct

direct-beam lithography
IATE - Information technology and data processing
IATE - Information technology and data processing


lithographie par rayons X | lithographie aux rayons X | lithographie à rayons X | lithographie X

X-ray lithography | XRL | X-lithography
physique > optique | électronique | nanotechnologie
physique > optique | électronique | nanotechnologie


rayon direct | rayon radioélectrique direct | trajet direct | trajet radioélectrique direct

direct ray
IATE - Technology and technical regulations | Electronics and electrical engineering
IATE - Technology and technical regulations | Electronics and electrical engineering


lithographie par rayons X

X-ray lithography
IATE - Technology and technical regulations
IATE - Technology and technical regulations
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
19.1 Les gravures, estampes et lithographies originales, tirées directement, en noir ou en couleurs, d’une ou plusieurs planches entièrement exécutées à la main par l’artiste, à l’exception des articles produits par procédé mécanique ou photomécanique.

19.1 Original engravings, prints and lithographs produced directly in black and white or in colour of one or of several plates wholly executed by hand by the artist, but not including such articles produced by any mechanical or photo-mechanical process.


c) être bien éclairé, tout en étant à l’abri des rayons directs du soleil;

(c) be well lit but with no direct sunlight entering the space;


(2) Les indicateurs de niveau à tube de verre du type à colonne devront être munis de robinets à volant métallique, de soupapes d’excès de débit et d’un tube en verre extra épais protégé par un logement métallique installé par le fabricant, et devront être soustraits aux rayons directs du soleil.

(2) Gauge glasses of the columnar type shall be equipped with shut-off valves having metallic hand wheels, excess flow valves, extra heavy glass adequately protected by a metal housing applied by the manufacturer and shall be protected from the direct rays of the sun.


Commentaires: on propose de donner un cours initial suivi d’un examen limité au transport des nos ONU 1202, 1203 et 1223 en emballages et en citernes, dans un rayon de 75 km autour du siège social (la longueur de la formation doit satisfaire aux prescriptions de l’ADR). Après cinq ans, le chauffeur doit suivre un cours de remise à niveau et passer un examen. Le certificat portera la mention «transport national des nos ONU 1202, 1203 et 1223 conformément à l’article 6, paragraphe 2, de la directive 2008/68/CE».

Comments: It is proposed that an initial course be given followed by an examination limited to the transport of UN 1202, 1203 and 1223 in packages and in tanks within a radius of 75 km of the location of the registered office — the length of training must meet the requirements of the ADR — after five years the driver must follow a refresher course and pass an examination – the certificate will stipulate ‘national transport of UN 1202, 1203 and 1223 pursuant to Article 6(2) of Directive 2008/68/EC’.


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La solution analysée ne doit pas être exposée à l'action directe des rayons solaires pendant la durée de l'essai.

Take care not to expose the sample solution to direct sunlight during the test.


26) «TIP»: Threat Image Projection, (projection d'images fictives ou d'images de menace) logiciel qui peut être installé sur certains systèmes à rayons X. Le programme permet de superposer des images virtuelles d'articles dangereux (par exemple, un revolver, un couteau, un engin explosif improvisé) à l'image d'un bagage réel soumis aux rayons X et contribue directement à accroître la capacité de l'opérateur du système à rayons X à détecter de tels articles.

‘TIP’: Threat Image Projection, a software programme, which can be installed on certain x-ray machines. The programme projects virtual images of threat articles (e.g. a gun, knife, improvised explosive device) within the x-ray image of a real bag under examination, and provides immediate feedback to the x-ray machine operator on the operator's ability to detect such images.


1. Aux fins de la présente directive, on entend par "oeuvres d'art originales", les oeuvres d'art graphique ou plastique telles que les tableaux, les collages, les peintures, les dessins, les gravures, les estampes, les lithographies, les sculptures, les tapisseries, les céramiques, les verreries et les photographies, pour autant qu'il s'agisse de créations exécutées par l'artiste lui-même ou d'exemplaires considérés comme oeuvres d'art originales.

1. For the purposes of this Directive, "original work of art" means works of graphic or plastic art such as pictures, collages, paintings, drawings, engravings, prints, lithographs, sculptures, tapestries, ceramics, glassware and photographs, provided they are made by the artist himself or are copies considered to be original works of art.


Étant donné que la taille des semi-conducteurs ne cesse de diminuer, il est largement admis que dans 10 à 11 ans, la longueur d'onde de la lumière qui sera nécessaire à la lithographie ira au-delà du spectre ultraviolet, atteignant l'extrême ultraviolet (EUV) ou la zone des rayons X mous.

With the constant diminution in the semiconductor structure size, it is well established that within 10-11 years, the wave length of the light required in the lithography process will go past the ultra-violet spectrum into the Extreme-Ultra-Violet (EUV) or soft X-ray zone.


Elle est également en concurrence avec d'autres techniques (telles que le rayon X et la lithographie par faisceau électronique), qui ont également fait l'objet de nombreuses études aux États-Unis.

It also competes with other technologies (like X-ray and electron beam lithography), that have also been intensely studied in the USA.


La solution analysée ne doit pas être exposée à l'action directe des rayons solaires pendant la durée de l'essai.

Take care not to expose the sample solution to direct sunlight during the test.




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Lithographie à rayon direct

Date index:2022-08-02 -

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