reactive ion deposition and etching | RIDE,reactive ion processes are an extension of sputtering processes in that the inert gas used for generating the plasma is replaced by a gas that reacts with the material to be deposited or etched [Abbr.]

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dépôt et gravure ionique réactifs

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électronique > fibre optique

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deposition of hydrogen ions [ hydrogen ion deposition ]

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dépôt d'ions hydrogène [ dépôt d'ions d'hydrogène ]

Air Pollution

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planar ion-implantation technique [ planar ion implantation process | planar ion implantation ]

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procédé d’implantation passivée planaire [ technique d’implantation ionique planaire ]

Semiconductors (Electronics)

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ion deposition printing

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impression à projection d'ions

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dépôt en phase vapeur interne | oxydation en phase vapeur interne | procédé d'oxydation en phase vapeur interne

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IN-CONTEXT TRANSLATIONS

5. Ion Plating is a special modification of a general TE-PVD process in which a plasma or an ion source is used to ionise the species to be deposited, and a negative bias is applied to the substrate in order to facilitate the extraction of the species from the plasma.

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5. le dépôt ionique est une modification spéciale d'une technique générale de dépôt en phase vapeur par procédé physique par évaporation thermique (TE-PVD) par laquelle une source d'ions ou un plasma est utilisé pour ioniser le matériau à déposer, une polarisation négative étant appliquée au substrat afin de faciliter l'extraction, hors du plasma, du matériau.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]

This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.

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Cela comprend les procédés dans lesquels l'implantation ionique est effectuée en même temps que le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons ou le dépôt par pulvérisation cathodique.

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f. Sputter Deposition is an overlay coating process based on a momentum transfer phenomenon, wherein positive ions are accelerated by an electric field towards the surface of a target (coating material).

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f. Le dépôt par pulvérisation cathodique est un procédé de revêtement par recouvrement, fondé sur un phénomène de transfert d'énergie cinétique, par lequel des ions positifs sont accélérés par un champ électrique et projetés sur la surface d'une cible (matériau de revêtement).

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'ion deposition process'

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