dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma | dépôt en phase vapeur assisté par plasma | dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma | dépôt en phase vapeur activé par plasma

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déposition par vapeur chimique utilisant le procédé plasma

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plasma assisted physical vapour deposition | PAPVD [Abbr.]

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déposition physique en phase vapeur assistée par plasma

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IN-CONTEXT TRANSLATIONS

2. Metal organic chemical vapour deposition (MOCVD) reactors specially designed for compound semiconductor crystal growth by the chemical reaction between materials specified in 3C003 or 3C004;

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2. réacteurs de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique organométallique (MOCVD) spécialement conçus pour la croissance cristalline de semi-conducteurs composés par réaction chimique entre des matériaux visés aux paragraphes 3C003 ou 3C004;

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http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]

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'Plasma assisted chemical vapour deposition reactor'

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